宿州/廢水處理/設(shè)備定制
溶氣氣浮技術(shù)近年來(lái)廣泛應(yīng)用于給排水及廢水處理中，它可以有效地去除廢水中難以沉淀的輕浮絮體。處理能力大、效率高、占地少、使用范圍廣。
•電鍍廢水處理與回用
設(shè)備簡(jiǎn)介：ZCAF系列渦凹?xì)飧C(jī)是本公司新研制開(kāi)發(fā)的產(chǎn)品
沉淀法
除油效率 / % 60 ~ 70 70 ~ 80 70 ~ 80
宿州/廢水處理/設(shè)備定制
水解酸化池的出水自流入生物接觸池,　通過(guò)好氧微生物的作用，將廢水中的污染物分解、轉(zhuǎn)化為H2O、CO2　、NH3　等物質(zhì)，大幅度去除廢水中COD、BOD
（二）、蔬菜清洗污水處理調(diào)試：A設(shè)備調(diào)試前，應(yīng)做好以下準(zhǔn)備工作：要清洗水池內(nèi)所有的贓物、雜物池。并比活性污泥池體積小，對(duì)水質(zhì)的適應(yīng)性強(qiáng)，耐沖擊負(fù)荷性能好，出水水質(zhì)穩(wěn)定，不會(huì)產(chǎn)生污泥膨脹。池中采用新型彈性
設(shè)備簡(jiǎn)介：

2、結(jié)果與討論

2.1 電極間距的影響

設(shè)置不同電極間距，調(diào)節(jié)pH至6.0，調(diào)整電流密度為5A/dm2，通電時(shí)間為30min。

在電極間距（cm）為1、2.5、5、7.5、10時(shí)，Cr6+去除率（%）分別為95.67、96.29，92.17、86.39、81.45；Cu2+去除率（%）分別為95.21、96.54、91.43、87.06、83.38；Ni2+去除率（%）分別為85.39、90.35、83.41、74.18、70.25；Zn2+去除率（%）分別為94.48、95.72、92.16、86.87、80.74。

極板間的距離高于5cm時(shí)，可能因電極間距太大，陰極產(chǎn)生的初生態(tài)和陽(yáng)極產(chǎn)生的絮凝劑，不能充分的與廢水中的金屬離子充分接觸。隨電極間距變寬，去除率相應(yīng)逐漸降低。

2.2 初始pH值的影響

調(diào)節(jié)不同初始pH值，電流密度為5.0A／dm2，電極間距為2.5cm，通電時(shí)間為30min。

在初始pH值為4、5、6、7、8、9、10，Cr6+去除率（%）分別為85.81、94.32、96.46、97.23、96.12、89.42、86.26；Cu2+去除率（%）分別為90.39、92.97、96.81、98.33、97.28、95.13、94.47；Ni2+去除率（%）分別為72.18、83.35、89.94、91.43、90.54、85.39、85.07；Zn2+去除率（%）分別為85.31、92.16、96.87、97.14、96.99、93.18、92.44。

在弱酸性情況下，電凝反應(yīng)環(huán)境更有利于廢水中鐵離子的水解，形成絮凝體；隨pH值升高，絮凝體形成速度相對(duì)有所提高，對(duì)水中重金屬離子有更好的網(wǎng)捕作用；同時(shí)，廢水中OH－的濃度也相應(yīng)提高。在pH值大于6且未超過(guò)8時(shí)，金屬離子開(kāi)始形成氫氧化物沉淀析出，且沉淀析出量隨著pH升高而增加。當(dāng)pH值大于8時(shí)，不利于的形成，影響重金屬還原，難于形成氫氧化物沉淀析出。綜上所述，當(dāng)pH值在6-7時(shí)，重金屬去除效果。

2.3 電流密度的影響

設(shè)置不同電流密度，電極間距為2.5cm，初始pH值調(diào)節(jié)為6，處理時(shí)間為30min。

在電流密度（A/dm2）為1、2、3、4、5、6時(shí)，Cr6+去除率（%）分別為51.34、66.85、74.31、90.32、95.58、86.21；Cu2+去除率（%）分別為54.93、67.23、77.89、93.29、97.74、87.45；Ni2+去除率（%）分別為47.11、58.38、69.35、88.28、93.23、80.36；Zn2+去除率（%）分別為：50.19、67.24、76.20、93.17、96.49、84.57。

當(dāng)電流密度在1~4A/m2時(shí)，在鐵電極上發(fā)生氧化反應(yīng)產(chǎn)生大量鐵離子，廢水中鐵離子濃度也隨著電流密度增大而升高，鐵離子在水中經(jīng)過(guò)水解產(chǎn)生大量的水解沉淀物，產(chǎn)生的絮凝劑增多，氣泡的產(chǎn)生速率同時(shí)有所加快，絮凝效果越來(lái)越好，所以重金屬離子的去除率也隨著電流密度的增大而逐漸升高。

2.4 電凝時(shí)間的影響

設(shè)置極板間的距離為2.5cm、電流強(qiáng)度為5A/dm2、初始pH=6，設(shè)置電凝時(shí)間為40min，在設(shè)備出水口每隔5min取樣一次。

在電凝時(shí)間（min）為5、10、15、20、25、30、35、40時(shí)，Cr6+去除率（%）分別為74.27、84.39、89.55、93.76、95.52、96.78、96.23、96.52；Cu2+去除率（%）分別為75.51、84.67、89.18、94.34、97.15、97.63、97.39、97.28；Ni2+去除率（%）分別為70.33、80.64、86.28、90.31、92.54、92.12、92.08、92.06；Zn2+去除率（%）分別為74.99、81.17、87.59、93.07、95.89、96.24、95.98、96.04。

電凝時(shí)間為25~30min。在電絮凝處理前15min時(shí)，隨電凝時(shí)間的增加，水解形成的絮凝劑數(shù)量越來(lái)越多，金屬離子去除率都快速增長(zhǎng)。當(dāng)電凝時(shí)間達(dá)到20min時(shí)，去除率趨于緩慢；此時(shí)，去除率分別為93.76、94.34、90.31和93.07，但是在超過(guò)30min時(shí)，去除率反而略微降低，同時(shí)趨于平穩(wěn)。